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Ebm, C
 

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1Ebm, C ; Hobler, Gerhard Simulation of Ion-beam Induced Etching and Deposition Using a Non-local Recoil-based AlgorithmKonferenzbeitrag Inproceedings2009
2Ebm, C ; Platzgummer, E ; Löschner, Hans ; Eder-Kapl, Stefan ; Jöchl, Peter ; Kümmel, Marco ; Reitinger, Rüdiger ; Hobler, Gerhard ; Köck, Anton ; Hainberger, R. ; Wellenzohn, Markus ; Letzkus, F ; Irmscher, Mathias Ion multibeam nanopatterning for photonic applications: Experiments and simulations, including study of precursor gas induced etching and depositionArtikel Article 2009
3Zaitsev, S ; Svintsov, A ; Ebm, C ; Eder-Kapl, Stefan ; Löschner, Hans ; Platzgummer, E ; Butschke, J. ; Letzkus, F ; Irscher, M ; van Delft, F.C.M.J. ; Naburgh, E.P ; Basnar, Bernhard Optimum dose distribution for Argon ion multi-beam sputtering of microlens array templatesKonferenzbeitrag Inproceedings2008
4Ebm, C ; Budil, Matthias ; Hobler, Gerhard oeAssessment of approximations for efficient topography simulation of ion beam processes: 10 keV Ar on SiPräsentation Presentation2008