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Full name Familienname, Vorname
Zeman, Petr
 
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1Bahr, Ahmed Adel Ibrahim ; Hahn, Rainer ; Wojcik, Tomasz ; Kozák, Tomáš ; Kirnbauer, Alexander ; Sauer, Markus ; Ramm, Jürgen ; Hunold, Oliver ; Kolozsvári, Szilárd ; Ntemou, Eleni ; Pitthan, Eduardo ; Primetzhofer, Daniel ; Zeman, Petr ; Riedl-Tragenreif, Helmut Non-reactive HiPIMS deposition of NbC coatingsPresentation Vortrag14-Mar-2023
2Bahr, Ahmed Adel Ibrahim ; Hahn, Rainer ; Wojcik, Tomasz ; Kozák, Tomáš ; Kirnbauer, Alexander ; Ramm, Jürgen ; Koloszvári, Szilard ; Pitthan, Eduardo ; Ntemou, Eleni ; Primetzhofer, Daniel ; Zeman, Petr ; Riedl-Tragenreif, Helmut Non-reactive HiPIMS deposition of Nb-C coatingsPresentation Vortrag14-Sep-2022
3Bahr, Ahmed Adel Ibrahim ; Hahn, Rainer ; Wojcik, Tomasz ; Kozák, Tomáš ; Ramm, Jürgen ; Koloszvári, Szilard ; Ntemou, Eleni ; Pitthan, Eduardo ; Primetzhofer, Daniel ; Zeman, Petr ; Riedl-Tragenreif, Helmut Non-reactive HiPIMS deposition of NbC coatingsPresentation Vortrag11-Jun-2022
4Zauner, Lukas ; Bahr, Ahmed Adel Ibrahim ; Kozák, Tomas ; Capek, Jiri ; Wojcik, Tomasz ; Hunold, Oliver ; Koloszvári, Szilard ; Zeman, Petr ; Mayrhofer, Paul Heinz ; Riedl-Tragenreif, Helmut Time-averaged and time-resolved ion fluxes related to reactive HiPIMS deposition of Ti-Al-N filmsPresentation Vortrag25-Jan-2022
5Zauner, Lukas ; Bahr, Ahmed ; Kozák, Tomas ; Capek, Jiri ; Wojcik, Tomasz ; Hunold, Oliver ; Kolozsvári, Szilárd ; Zeman, Petr ; Mayrhofer, Paul Heinz ; Riedl, Helmut Time-averaged and time-resolved ion fluxes related to reactive HiPIMS deposition of Ti-Al-N filmsPräsentation Presentation2021
6Kagerer, Stefan ; Zauner, Lukas ; Wojcik, Tomasz ; Koloszvári, Szilard ; Kozák, Tomas ; Capek, Jiri ; Zeman, Petr ; Riedl, Helmut ; Mayrhofer, Paul Heinz Reactive HiPIMS deposition of Al-oxide thin films using W-alloyed Al targetsArtikel Article 2021
7Riedl, Helmut ; Kagerer, Stefan ; Zauner, Lukas ; Wojcik, Tomasz ; Kolozsvári, Szilárd ; Capek, Jiri ; Kozák, Tomas ; Zeman, Petr ; Mayrhofer, Paul Heinz Influence of transition metal dopants on the reactive HiPIMS deposition of γ-Al2O3 thin filmsPräsentation Presentation2019