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Sheikholeslami, Alireza
 
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1Holzer, Stefan ; Sheikholeslami, Alireza ; Karner, Markus ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried Comparison of Deposition Models for a TEOS LPCVD ProcessArtikel Article2007
2Movahhedi, Masoud ; Abdipour, Abdolali ; Ceric, Hajdin ; Sheikholeslami, Alireza ; Selberherr, Siegfried Optimization of the Perfectly Matched Layer for the Finite-Element Time-Domain MethodArtikel Article2007
3Sheikholeslami, Alireza ; Parhami, Farnaz ; Puchner, Helmut ; Selberherr, Siegfried Planarization of Silicon Dioxide and Silicon Nitride Passivation LayersArtikel Article2007
4Holzer, Stefan ; Wagner, Martin ; Sheikholeslami, Alireza ; Karner, Markus ; Span, Gerhard ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried An Extendable Multi-Purpose Simulation and Optimization Framework for Thermal Problems in TCAD ApplicationsKonferenzbeitrag Inproceedings2006
5Holzer, Stefan ; Sheikholeslami, Alireza ; Karner, Markus ; Grasser, Tibor Comparison of Deposition Models for TEOS CVD ProcessKonferenzbeitrag Inproceedings 2006
6Sheikholeslami, Alireza ; Parhami, Farnaz ; Puchner, H ; Selberherr, Siegfried Planarization of Silicon Dioxide and Silicon Nitride Passivation LayersKonferenzbeitrag Inproceedings2006
7Sheikholeslami, Alireza ; Selberherr, Siegfried ; Parhami, Farnaz ; Puchner, H Planarization of Passivation Layers during Manufacturing Processes of Image SensorsKonferenzbeitrag Inproceedings 2006
8Sheikholeslami, Alireza ; Heinzl, Rene ; Holzer, Stefan ; Heitzinger, Clemens ; Spevak, Michael ; Leicht, M. ; Häberlen, O. ; Fugger, J. ; Badrieh, Fuad ; Parhami, Farnaz ; Puchner, H ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried Applications of Two- and Three-Dimensional General Topography Simulator in Semiconductor Manufacturing ProcessesKonferenzbeitrag Inproceedings2006
9Sheikholeslami Alireza - 2006 - Topography simulation of deposition and etching...pdf.jpgSheikholeslami, Alireza Topography simulation of deposition and etching processesThesis Hochschulschrift 2006
10Entner, Robert ; Heinzl, Rene ; Hollauer, Christian ; Sheikholeslami, Alireza ; Wittmann, Robert ; Selberherr, Siegfried VISTA Status Report June 2005Bericht Report2005
11Sheikholeslami, Alireza ; Holzer, Stefan ; Heitzinger, Clemens ; Leicht, M. ; Häberlen, O. ; Fugger, J. ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried Inverse Modeling of Oxid Deposition Using Measurements of a TEOS CVD ProcessKonferenzbeitrag Inproceedings2005
12Heitzinger, Clemens ; Sheikholeslami, Alireza ; Park, Jong Mun ; Selberherr, Siegfried A Method for Generating Structurally Aligned Grids for Semiconductor Device SimulationArtikel Article 2005
13Sheikholeslami, Alireza ; Al-Ani, Elaf ; Heinzl, Rene ; Heitzinger, Clemens ; Parhami, Farnaz ; Badrieh, Fuad ; Puchner, Helmut ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried Level Set Method Based General Topography Simulator and its Application in Interconnect ProcessesKonferenzbeitrag Inproceedings2005
14Heitzinger, Clemens ; Sheikholeslami, Alireza ; Fugger, J. ; Häberlen, O. ; Leicht, M. ; Selberherr, Siegfried A Case Study in Predictive Three-Dimensional Topography Simulation Based on a Level-Set AlgorithmKonferenzbeitrag Inproceedings2004
15Sheikholeslami, Alireza ; Heitzinger, Clemens ; Al-Ani, Elaf ; Heinzl, Rene ; Grasser, Tibor ; Selberherr, Siegfried Three-Dimensional Surface Evolution Using a Level Set MethodKonferenzbeitrag Inproceedings2004
16Ceric, Hajdin ; Holzer, Stefan ; Sheikholeslami, Alireza ; Ayalew, Tesfaye ; Wittmann, Robert ; Selberherr, Siegfried VISTA Status Report June 2004Bericht Report2004
17Hollauer, Christian ; Sheikholeslami, Alireza ; Palankovski, Vassil ; Wagner, Stephan ; Wittmann, Robert ; Selberherr, Siegfried VISTA Status Report June 2003Bericht Report2003
18Sheikholeslami, Alireza ; Heitzinger, Clemens ; Puchner, Helmut ; Badrieh, Fuad ; Selberherr, Siegfried Simulation of Void Formation in Interconnect LinesPräsentation Presentation2003