Full name Familienname, Vorname
Frischmuth, Tobias
 
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1Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich FT-IR analysis of high temperature annealing effects in a-SiC:H thin filmsKonferenzbeitrag Inproceedings2017
2Reiner, Maria ; Schellander, J. ; Denifl, Günter ; Stadtmueller, M. ; Schmid, Michael ; Frischmuth, Tobias ; Schmid, Ulrich ; Pietschnig, Rudolf ; Ostermaier, Clemens Physical-chemical stability of fluorinated III-N surfaces: Towards the understanding of the (0001) AlₓGa₁₋ₓN surface donor modification by fluorinationArtikel Article 2017
3Frischmuth, Tobias Hydrogenated amorphous silicon carbide thin films for microelectromechanical systemsThesis Hochschulschrift2016
4Klein, Alexander ; Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Einfluss der Schichtdicke auf das mechanische Verhalten und die Bruchstabilität von a-SiC:H MembranenKonferenzbeitrag Inproceedings2016
5Frischmuth, Tobias ; Klein, Alexander ; Schneider, Michael ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Fracture analysis of a-SiC:H membranes after thermal annealingKonferenzbeitrag Inproceedings 2016
6Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Maurer, Daniel ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Inductively-coupled plasma-enhanced chemical vapour deposition ofhydrogenated amorphous silicon carbide thin films for MEMSArtikel Article 2016
7Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Bogdanović Radović, Iva ; Siketić, Zdravko ; Maurer, Daniel ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Lowtemperature deposition of a-SiC:H thin films applying a dual plasma source processArtikel Article 2016
8Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Maurer, Daniel ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich High temperature annealing effects on the chemical and mechanical properties of inductively-coupled plasma-enhanced chemical vapor deposited a-SiC:H thin filmsArtikel Article 2016
9Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Maurer, Daniel ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Impact of thermal treatment on the residual stress and Young's modulus of thin a-SiC:H membranes applying bulge testingKonferenzbeitrag Inproceedings2015
10Frischmuth, Tobias ; Maurer, Daniel ; Schneider, Michael ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich IMPACT OF SUBSTRATE TEMPERATURE AND INDUCTIVELY COUPLED PLASMA POWER ON a-SiC:H THIN FILM PROPERTIESKonferenzbeitrag Inproceedings2015
11Frischmuth, Tobias ; Dergez, David ; Stübegger, Marko ; Hedenig, Ursula ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Influence of High Temperature Annealings on a-SiC:H Thin Film PropertiesKonferenzbeitrag Inproceedings2014
12Frischmuth, Tobias ; Schneider, Michael ; Grille, Thomas ; Schmid, Ulrich Effect of Reactive Gas Flow Ratio on IC-PECVD Deposited a-SiC:H Thin FilmsKonferenzbeitrag Inproceedings 2014
13Frischmuth, Tobias ; Buchegger, Wolfgang Herbert ; Kraft, Martin ; Vellekoop, Michael J. Squeezed microfluidic droplet creation with a T-junction and a flow focusing device at very low flow ratesKonferenzbeitrag Inproceedings2012
14Frischmuth, Tobias A microfluidic chip for single droplet manipulation and analysis by Raman microspectroscopyThesis Hochschulschrift2012

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1Stübegger, Marko Hochtemperaturstabilität von PECVD a-SiC:H und a-SixNy:H DünnfilmenThesis Hochschulschrift2015