Abweichender Titel laut Übersetzung der Verfasserin/des Verfassers
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dc.description.abstract
In dieser Arbeit wird ein neuartiger, 3D-fäiger-Focused-Ion-Beam (FIB)-Prozess zur Modifikation und Strukturierung von SiO2 -Stempeln für Nano-Imprint-Lithography (NIL) entwickelt. Mit diesem Prozess konnten Strukturen mit einer Breite bis zu 30 nm hergestellt werden.<br />Unter Eingrenzung des zulässigen Aspektverhältnis auf 3:1, lag die erzielte Struktur-Breite bei bis zu 60 nm. Durch die Erzeugung von notchs, konnte eine Ausrichtgenauigkeit des Strahls zur Probe besser als 40nm nachgewiesen werden. Durch mehrmaliges Belichten der selben Struktur, lassen sich beinahe beliebige 3D-Strukturen mit Strukturbreiten bis zu 60nm erzeugen. NIL-Abzüge des modifizierten Stempels wurden von der Fa. Profaktor hergestellt. Die Abzüge zeigten eine gute Übereinstimmung mit den Stempel.<br />
de
dc.description.abstract
In this work a 3D-capable,Focused-Ion-Beam (FIB)-based modification-process for SiO2 -Nano-Imprint-Lithography (NIL)-Templates is developed. Patterns with resolution down to 30nm were successfully formed.<br />At an aspect-ratio of 3:1 the formation of structures with a width of 60nm was feasible. An alignement accuracy better than 40nm was shown by thinning existing mesas. 3D-Strctures were successfully created by milling. The minimum-feature-size of these structrues was again 60nm.<br />NIL-Imprints of the manufactued structures were produced by Profactor and showed a good agreement with the template- structures.
en
dc.language
Deutsch
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dc.language.iso
de
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dc.rights.uri
http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/
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dc.subject
Nano
de
dc.subject
Lithographie
de
dc.subject
NIL
de
dc.subject
FIB
de
dc.subject
Fokussierter Ionenstral
de
dc.subject
Nano-Imprint-Lithographie
de
dc.subject
Strukturierung
de
dc.subject
Modifikation
de
dc.subject
Nano
en
dc.subject
Lithography
en
dc.subject
NIL
en
dc.subject
FIB
en
dc.subject
focussed-ion-beam
en
dc.subject
nano-imprint-lithography
en
dc.subject
structuring
en
dc.subject
modification
en
dc.title
Strukturierung und Modifikation von Nano-Imprint-Lithographie-Stempeln mittels fokussiertem Ionen-Strahl
de
dc.title.alternative
Modification and structuring of nano-imprint-lithography-stamps by focussed-ion-beams
en
dc.type
Thesis
en
dc.type
Hochschulschrift
de
dc.rights.license
In Copyright
en
dc.rights.license
Urheberrechtsschutz
de
dc.contributor.affiliation
TU Wien, Österreich
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dc.rights.holder
Simon-Emanuel Waid
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tuw.version
vor
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tuw.thesisinformation
Technische Universität Wien
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tuw.publication.orgunit
E362 - Institut für Festkörperelektronik
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dc.type.qualificationlevel
Diploma
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dc.identifier.libraryid
AC07806256
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dc.description.numberOfPages
64
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dc.identifier.urn
urn:nbn:at:at-ubtuw:1-30574
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dc.thesistype
Diplomarbeit
de
dc.thesistype
Diploma Thesis
en
dc.rights.identifier
In Copyright
en
dc.rights.identifier
Urheberrechtsschutz
de
tuw.advisor.staffStatus
staff
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item.openaccessfulltext
Open Access
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item.openairecristype
http://purl.org/coar/resource_type/c_bdcc
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open
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item.mimetype
application/pdf
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item.languageiso639-1
de
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item.openairetype
master thesis
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item.fulltext
with Fulltext
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item.cerifentitytype
Publications
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crisitem.author.dept
E362 - Institut für Festkörperelektronik
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crisitem.author.parentorg
E350 - Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik