<div class="csl-bib-body">
<div class="csl-entry">Hoffmann, H. (2009). Raumtemperaturwachstum von Siliciumoxid-Nanofilmen: neue Chancen für die Plastikelektronik. <i>Angewandte Chemie</i>, <i>121</i>(14), 2493–2496. https://doi.org/10.1002/ange.200805329</div>
</div>
-
dc.identifier.issn
0044-8249
-
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.12708/166613
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dc.language.iso
de
-
dc.relation.ispartof
Angewandte Chemie
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dc.subject
General Medicine
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dc.title
Raumtemperaturwachstum von Siliciumoxid-Nanofilmen: neue Chancen für die Plastikelektronik
de
dc.type
Artikel
de
dc.type
Article
en
dc.description.startpage
2493
-
dc.description.endpage
2496
-
dc.type.category
Original Research Article
-
tuw.container.volume
121
-
tuw.container.issue
14
-
tuw.journal.peerreviewed
true
-
tuw.peerreviewed
true
-
tuw.researchTopic.id
X1
-
tuw.researchTopic.name
außerhalb der gesamtuniversitären Forschungsschwerpunkte
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tuw.researchTopic.value
100
-
dcterms.isPartOf.title
Angewandte Chemie
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tuw.publication.orgunit
E163-01-1 - Forschungsgruppe Organometallische Chemie und Katalyse
