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dc.contributor.author
Kim, Heung-Bae
-
dc.contributor.author
Hobler, Gerhard
-
dc.contributor.author
Steiger-Thirsfeld, Andreas
-
dc.contributor.author
Lugstein, Alois
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dc.contributor.author
Bertagnolli, Emmerich
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dc.date.accessioned
2023-03-10T09:01:44Z
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dc.date.available
2023-03-10T09:01:44Z
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dc.date.issued
2007
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<div class="csl-bib-body"> <div class="csl-entry">Kim, H.-B., Hobler, G., Steiger-Thirsfeld, A., Lugstein, A., &#38; Bertagnolli, E. (2007). Full three-dimensional simulation of focused ion beam micro/nanofabrication. <i>Nanotechnology</i>, <i>18</i>, 2453031–2453038. http://hdl.handle.net/20.500.12708/168574</div> </div>
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0957-4484
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dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.12708/168574
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dc.relation.ispartof
Nanotechnology
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dc.title
Full three-dimensional simulation of focused ion beam micro/nanofabrication
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dc.type
Artikel
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2453031
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Original Research Article
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Modelling and Simulation
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Nanoelectronics
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Nanotechnology
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1361-6528
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Elektrotechnik, Elektronik
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Publications
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crisitem.author.dept
E366 - Institut für Sensor- und Aktuatorsysteme
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crisitem.author.dept
E362-02 - Forschungsbereich Nanoelektronische Bauelemente
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crisitem.author.dept
E057-02 - Fachbereich Universitäre Serviceeinrichtung für Transmissions- Elektronenmikroskopie
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crisitem.author.dept
E362-02 - Forschungsbereich Nanoelektronische Bauelemente
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crisitem.author.dept
E362 - Institut für Festkörperelektronik
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crisitem.author.orcid
0000-0002-2140-6101
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crisitem.author.orcid
0000-0003-1641-3902
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crisitem.author.parentorg
E350 - Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
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E362 - Institut für Festkörperelektronik
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E057 - Facilities und Zentren
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E362 - Institut für Festkörperelektronik
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E350 - Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
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