<div class="csl-bib-body">
<div class="csl-entry">Haas, P. (2007). <i>Investigation of implantations in SiGe with TOF-SIMS</i> [Diploma Thesis, Technische Universität Wien]. reposiTUm. http://hdl.handle.net/20.500.12708/181925</div>
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dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.12708/181925
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dc.description.abstract
Untersucht wurden Bor und Fluor Implantationen in SiGe-Matrices.<br />Die Messergebnisse werden vom Institut für Mikroelektronik (TU-WIEN), im Rahmen eines FWF-Projektes verwendet, um die semi-empierischen Algorithmen eines Simulationsprogrammes auf diesen Halbleitertyp anzupassen.
de
dc.language
English
-
dc.language.iso
en
-
dc.subject
Implantationen
de
dc.subject
Implantation
de
dc.subject
TOFSIMS
de
dc.subject
TOF-SIMS
de
dc.subject
SiGe
de
dc.subject
Si Ge
de
dc.subject
B
de
dc.subject
Bor
de
dc.subject
F
de
dc.subject
Fluor
de
dc.title
Investigation of implantations in SiGe with TOF-SIMS
en
dc.type
Thesis
en
dc.type
Hochschulschrift
de
dc.contributor.affiliation
TU Wien, Österreich
-
tuw.thesisinformation
Technische Universität Wien
-
tuw.publication.orgunit
E164 - Institut für Chemische Technologien und Analytik
