Elektrische in-situ Erfassung und Charakterisierung von strahlinduzierten Deponaten in SEM und FIB - Anlagen

Abstract

Die Aufgabenstellung dieser Arbeit war es, mit Elektronen- oder Ionenstrahl abgeschiedene Deponate durch eine in-situ Widerstandsmessung zu charakterisieren.<br />Als Abscheideanlagen standen ein Elektronenmikroskop und ein Ionenstrahlmikroskop mit Gasinjektionssystem zur Verfügung.<br />Neben der Abscheidung aus Restgas wurden die Precursormaterialien für Eisen, Wolfram und Platin zugeführt und die Materialabscheidungen aus diesen Substanzen untersucht und verglichen.<br />Es sollte geklärt werden, ob die chemische Reinheit des Deponats über den elektrischen Widerstand (bzw.<br />den spezifischen Widerstand) quantifiziert werden kann.<br />Zur in-situ Widerstandsmessung wurde ein Messystem mit vakuumtauglicher Messelektrodenanordnung aufgebaut.<br />Die Deponate wurden auf einem Chip mit Mikroelektroden zur in-situ Widerstandsmessung durch Direktabscheidung sowohl mit dem Elektronenstrahl als auch mit dem Ionenstrahl auf Flächen bis zu 10x1 µm erzeugt.<br />

Focused beam induced deposition is a nanostructuring technique allowing to fabricate ultrasmall nanostructures, that can be used as electrical conductors.<br />The high surface/volume ratio of nanostructured metals makes the surrounding environment and resulting surface reactions a considerable factor.<br />The goal of this work was to electrically characterize nanostructures under vacuum conditions while excluding any influence from the environment.