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<div class="csl-entry">Hössinger, A. (2000). <i>Simulation of ion implantation for ULSI technology</i> [Dissertation, Technische Universität Wien]. reposiTUm. http://hdl.handle.net/20.500.12708/186699</div>
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http://hdl.handle.net/20.500.12708/186699
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dc.description
Zs.fassung in dt. Sprache
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dc.language
English
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dc.language.iso
en
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dc.subject
Ionenimplantation
de
dc.subject
ULSI
de
dc.subject
Monte-Carlo-Simulation
de
dc.title
Simulation of ion implantation for ULSI technology
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dc.type
Thesis
en
dc.type
Hochschulschrift
de
dc.contributor.affiliation
TU Wien, Österreich
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tuw.thesisinformation
Technische Universität Wien
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tuw.publication.orgunit
E360 - Institut für Mikroelektronik
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dc.type.qualificationlevel
Doctoral
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dc.identifier.libraryid
AC03142507
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dc.description.numberOfPages
151
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dc.thesistype
Dissertation
de
dc.thesistype
Dissertation
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tuw.advisor.staffStatus
staff
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tuw.advisor.orcid
0000-0002-5583-6177
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item.languageiso639-1
en
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item.openairetype
doctoral thesis
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none
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item.fulltext
no Fulltext
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item.cerifentitytype
Publications
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item.openairecristype
http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
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crisitem.author.dept
E360 - Institut für Mikroelektronik
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crisitem.author.parentorg
E350 - Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
