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<div class="csl-entry">Solfronk, O. (2021). <i>Fabrication and evaluation of different passivation layers for the germanium - insulator interface using plasma enhanced ALD</i> [Diploma Thesis, Technische Universität Wien]. reposiTUm. https://doi.org/10.34726/hss.2021.88280</div>
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dc.identifier.uri
https://doi.org/10.34726/hss.2021.88280
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dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.12708/19221
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dc.description
Abweichender Titel nach Übersetzung der Verfasserin/des Verfassers
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dc.description.abstract
Die Aufgabe dieser Masterarbeit ist es, verschiedene Passivierungen der Germanium-Dielektrikum Grenzfläche herzustellen und zu testen. Dazu werden verschiedene Methoden mit Hilfe einer plasma enhanced ALD ausprobiert und danach optisch und elektrisch charakterisiert. Mit diesen Daten soll danach ein Vergleich der Methoden aufgestellt werden.
de
dc.description.abstract
This master thesis focuses on the different possibilities to passivate the interface between germanium and a high-k insulator. In the first part of the thesis, different passivation layers are developed using a plasma enhanced ALD, connected to a UHV system to ensure the highest level of cleanliness of the germanium surface and to minimize the oxygen content. After the fabrication step, a comparison of the passivation methods is performed using the data extracted from optical and electrical characterization.
en
dc.language
English
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dc.language.iso
en
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dc.rights.uri
http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/
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dc.subject
Germanium
de
dc.subject
MIS Kondensator
de
dc.subject
Transistor
de
dc.subject
Germanium
en
dc.subject
MIS capacitor
en
dc.subject
transistor
en
dc.title
Fabrication and evaluation of different passivation layers for the germanium - insulator interface using plasma enhanced ALD
en
dc.title.alternative
Herstellung und Charakterisierung verschiedener Passivierungen für die Germanium - Dielektrikum Grenzfläche mit Hilfe einer plasma enhanced ALD