<div class="csl-bib-body">
<div class="csl-entry">Fugger, M. (2014). <i>Integrity of diffusion barriers in modern high-voltage power semiconductors</i> [Dissertation, Technische Universität Wien]. reposiTUm. http://hdl.handle.net/20.500.12708/78553</div>
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dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/20.500.12708/78553
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dc.description
Zusammenfassung in deutscher Sprache
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dc.description
Abweichender Titel laut Übersetzung der Verfasserin/des Verfassers
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dc.format
134 Blätter
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dc.language
English
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dc.language.iso
en
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dc.subject
TOF-SIMS
de
dc.subject
Halbleiter
de
dc.subject
TOF-SIMS
en
dc.subject
Semiconductor
en
dc.title
Integrity of diffusion barriers in modern high-voltage power semiconductors
en
dc.title.alternative
Integrität von Kontaktbarrieren in Hochvolt-Leistungshalbleitern
de
dc.type
Thesis
en
dc.type
Hochschulschrift
de
dc.contributor.affiliation
TU Wien, Österreich
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tuw.thesisinformation
Technische Universität Wien
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dc.contributor.assistant
Danninger, Herbert
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tuw.publication.orgunit
E164 - Institut für Chemische Technologien und Analytik
