Full name Familienname, Vorname
Harasek, Stefan
 
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1Harasek, S. ; Abermann, Stephan ; Brezna, Wolfgang ; Smoliner, Jürgen ; Bertagnolli, Emmerich MOCVD of zirconium-oxide thin films for High-K dielectricaPräsentation Presentation2005
2Brezna, Wolfgang ; Harasek, S. ; Lugstein, Alois ; Leitner, Thomas ; Hoffmann, Helmuth ; Bertagnolli, Emmerich ; Smoliner, Jürgen Mapping of local oxide properties by quantitative scanning capacitance spectroscopyArtikel Article 2005
3Brezna, Wolfgang ; Harasek, S. ; Lugstein, Alois ; Leitner, Thomas ; Hoffmann, Helmuth ; Bertagnolli, Emmerich ; Smoliner, Jürgen Quantitative Scanning Capacitanc SpectroscopyPräsentation Presentation2004
4Brezna, Wolfgang ; Schramböck, Matthias ; Lugstein, Alois ; Harasek, S. ; Enichlmair, H. ; Bertagnolli, Emmerich ; Gornik, Erich ; Smoliner, Jürgen Quantitative Scanning Capacitance SppecroscopyPräsentation Presentation2004
5Schröder, A. ; Harasek, S. ; Kupnik, Mario ; Wiesinger, Michael ; Gornik, Erich ; Benes, Ewald ; Gröschl, Martin A Capacitance Ultrasonic Transducer for High-Temperature ApplicationsArtikel Article 2004
6Harasek, Stefan Zirkoniumdioxiddünnfilme als hoch-[epsilon] Gateisolatoren für die SiliziumtechnologieThesis Hochschulschrift2003
7Wanzenböck, Heinz D. ; Harasek, Stefan ; Bertagnolli, Emmerich ; Hutter, Herbert ; Brenner, Josef ; Störi, Herbert ; Pongratz, Peter Direct-Write Deposition of Silicon Oxide - The Espress Lane towards patterned thin FilmsPräsentation Presentation2003
8Wanzenböck, Heinz D. ; Harasek, S. ; Langfischer, Helmut ; Auer, Erwin ; Bertagnolli, Emmerich ; Hutter, Herbert ; Störi, Herbert Focused Ion Beam induced Chemical Vapor Deposition (FIB-DVD) for Local Nanodeposition of Dielectric MaterialPräsentation Presentation2003
9Langfischer, Helmut ; Harasek, S. ; Wanzenböck, Heinz D. ; Lugstein, Alois ; Basnar, B. ; Bertagnolli, Emmerich Morphological Studies of Focused Ion Beam Induced Tungsten DepositionPräsentation Presentation2003
10Wanzenböck, Heinz D. ; Harasek, S. ; Langfischer, Helmut ; Brezna, Wolfgang ; Smoliner, Jürgen ; Bertagnolli, Emmerich Deposition Mechanism of oxide thin films manufactured by a focused energetic beam processPräsentation Presentation2002
11Wanzenböck, Heinz D. ; Langfischer, Helmut ; Harasek, S. ; Bertagnolli, Emmerich Versatile Nanodeposition of Dielectrics and Metals by noncontract direct-write technologiesPräsentation Presentation2002
12Wanzenböck, Heinz D. ; Harasek, Stefan ; Langfischer, Helmut ; Bertagnolli, Emmerich ; Grabner, U. ; Hammer, G. ; Pongratz, Peter FI-TEM characterization of locally resticted implantation damagePräsentation Presentation2002
13Wanzenböck, Heinz D. ; Harasek, Stefan ; Hobler, Gerhard ; Hutter, Herbert ; Störi, Herbert ; Pongratz, Peter ; Bertagnolli, Emmerich Dielectric nanostructure fabricatio using a focused ion beamPräsentation Presentation2002
14Harasek, S. ; Wanzenböck, Heinz D. ; Langfischer, Helmut ; Bertagnolli, Emmerich Ultrathin zirconium dioxide chemically deposited at a low thermal budgetPräsentation Presentation2002
15Wanzenböck, Heinz D. ; Hobler, Gerhard ; Langfischer, Helmut ; Harasek, S. ; Brezna, Wolfgang ; Smoliner, Jürgen ; Bertagnolli, Emmerich Characterization of Doping and intermixing effects of focused ion beam processingPräsentation Presentation2002
16Wanzenböck, Heinz D. ; Gergov, S. ; Auer, Erwin ; Harasek, S. ; Bertagnolli, Emmerich ; Gritsch, Martin ; Hutter, Herbert ; Brenner, Josef ; Störi, Herbert Reliability of Silicon Oxide deposited by an Focused Ion Beam as Insulator for Microelectronic Interconnect LayerPräsentation Presentation2001
17Wanzenböck, Heinz D. ; Lugstein, Alois ; Harasek, S. ; Langfischer, Helmut ; Bertagnolli, Emmerich Advances in Material Porperties of Focused Ion Beam Deposited DielecticsPräsentation Presentation2000
18Fafilek, G ; Harasek, S Voltammetric Measurements on MexOy (Me=Bi, Cu, V) compounds and comparison with results for BICUVArtikel Article 1999