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Datensatz Zitierlink: 
http://hdl.handle.net/20.500.12708/88002
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Titel: 
Focused Ion Beam induced Chemical Vapor Deposition (FIB-DVD) for Local Nanodeposition of Dielectric Material
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Zitat: 
Wanzenböck, H. D., Harasek, S., Langfischer, H., Auer, E., Bertagnolli, E., Hutter, H., & Störi, H. (2003). Focused Ion Beam induced Chemical Vapor Deposition (FIB-DVD) for Local Nanodeposition of Dielectric Material. Meeting of the Electrochemical Society (ECS), Honolulu, Austria. http://hdl.handle.net/20.500.12708/88002
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Publikationstyp: 
Präsentation - Poster-Präsentation
de
Autor_innen: 
Wanzenböck, Heinz D. 
Harasek, S. 
Langfischer, Helmut 
Auer, Erwin 
Bertagnolli, Emmerich 
Hutter, Herbert 
Störi, Herbert 
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Organisations­einheit: 
E134-01 - Forschungsbereich Applied and Computational Physics 
E164-01-2 - Forschungsgruppe Oberflächen-, Spurenanalytik und Chemometrie 
E362 - Institut für Festkörperelektronik 
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Datum (veröffentlicht): 
2003
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Veranstaltungs­name: 
Meeting of the Electrochemical Society (ECS) 
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Veranstaltungs­zeitraum: 
18-Okt-1987 - 23-Okt-1987
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Veranstaltungs­ort: 
Honolulu, Österreich
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Wissenschafts­zweig: 
Elektrotechnik, Elektronik
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Enthalten in den Sammlungen:
Presentation

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