Das Ziel der Dissertation war es die Erkenntnisse über die bei unterschiedlichen Abscheidebedingungen erzeugbaren Chromschichten zu erweitern. Wesentliches Hauptaugenmerk wurde auf die Eingrenzung der Erzeugung rauer, sogenannter Strukturchromschichten, gelegt.<br />Für die Arbeiten wurde ein selbstregulierendes Chrom(VI)säurebad auf SrSO4 Basis verwendet.<br />Abscheidungen bei unterschiedlichen Stromdichten zeigten, daß bei 40°C sich bei geringen Stromdichten (kleiner als 20 A/dm2) silbern glänzende, glatte Hartchromschichten (HV 0,1 800 bis 900), bei höheren Stromdichten (20 A/dm2 bis 50 A/dm2) raue Strukturchromschichten (Hv 0,1 900) bildeten. Bei den rauen Schichten wurde die Zunahme der Rauheit in Abhängigkeit zur Abscheidedauer untersucht. Dabei zeigt sich, daß die Rauheit mit der Dauer der Abscheidung zunimmt. Bei 30°C zeigt sich, daß sich auch bei Wahl niedriger Abscheidestromdichten keine glatten, glänzenden Hartchromschichten mehr herstellen ließen. Dagegen schieden sich im gesamten Stromdichtebereich Strukturchromschichten ab. Diese Strukturchromschichten unterschieden sich von den bei 40°C hergestellten Strukturchromschichten dadurch, daß ihre Rauheit mit der Dauer der Abscheidung nicht mehr zunahm. Auch weisen sie wesentlich geringere Härten von HV 0,1 600 bis 700 auf.<br />Bei erhöhten Temperaturen (ab 45°C) zeigt sich, dass sich im gesamten Stromdichtebereich nur noch glänzende, glatte, Hartchromschichten abscheiden ließen.<br />Zur Optimierung der Strukturchromschichten für die am Forschungsprojekt beteiligten Industriepartner erfolgten ergänzende Untersuchungen veränderter Abscheideprozesse. Unter anderem wurden Pulsstromabscheidungen und Abscheidungen mit sich verändernden Abscheideparametern durchgeführt um die Schichteigenschaften in Hinblick auf die Anwendung unserer Industriepartner zu optimieren. Dabei kristallisierte sich als wichtigster Parameter für eine reproduzierbare Abscheidung gewünschter Strukturchromschichten die exakte Temperaturkontrolle heraus.<br />
