Record link: 
http://hdl.handle.net/20.500.12708/166613
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Title: 
Raumtemperaturwachstum von Siliciumoxid-Nanofilmen: neue Chancen für die Plastikelektronik
de
Citation: 
Hoffmann, H. (2009). Raumtemperaturwachstum von Siliciumoxid-Nanofilmen: neue Chancen für die Plastikelektronik. Angewandte Chemie, 121(14), 2493–2496. https://doi.org/10.1002/ange.200805329
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Publisher DOI: 
10.1002/ange.200805329
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Publication Type: 
Article - Original Research Article
en
Language: 
German
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Authors: 
Hoffmann, Helmuth 
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Organisational Unit: 
E163-01-1 - Forschungsgruppe Organometallische Chemie und Katalyse 
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Journal: 
Angewandte Chemie 
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ISSN: 
0044-8249
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Date (published): 
2009
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Number of Pages: 
4
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Peer reviewed: 
Yes
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Keywords: 
General Medicine
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Research Areas: 
außerhalb der gesamtuniversitären Forschungsschwerpunkte: 100%
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Science Branch: 
Chemie
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Appears in Collections:
Article

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