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TU Wien Academic Press
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Year of Publication
Record link:
http://hdl.handle.net/20.500.12708/184968
-
Title:
Zirkoniumdioxiddünnfilme als hoch-[epsilon] Gateisolatoren für die Siliziumtechnologie
de
Citation:
Harasek, S. (2003).
Zirkoniumdioxiddünnfilme als hoch-[epsilon] Gateisolatoren für die Siliziumtechnologie
[Dissertation, Technische Universität Wien]. reposiTUm. http://hdl.handle.net/20.500.12708/184968
-
CatalogPlus:
AC04081982
-
Publication Type:
Thesis - Dissertation
en
Hochschulschrift - Dissertation
de
Language:
German
-
Authors:
Harasek, Stefan
-
Advisor:
Bertagnolli, Emmerich
-
Organisational Unit:
E362 - Institut für Festkörperelektronik
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Date (published):
2003
-
Number of Pages:
136
-
Keywords:
Zirkoniumdioxid; Dünnschichttechnik; Halbleiterbauelement; Gate; Isolatorbauteil
de
Additional information:
Zsfassung in engl. Sprache
-
Appears in Collections:
Thesis
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