In dieser Arbeit wird ein neuartiger, 3D-fäiger-Focused-Ion-Beam (FIB)-Prozess zur Modifikation und Strukturierung von SiO2 -Stempeln für Nano-Imprint-Lithography (NIL) entwickelt. Mit diesem Prozess konnten Strukturen mit einer Breite bis zu 30 nm hergestellt werden.<br />Unter Eingrenzung des zulässigen Aspektverhältnis auf 3:1, lag die erzielte Struktur-Breite bei bis zu 60 nm. Durch die Erzeugung von notchs, konnte eine Ausrichtgenauigkeit des Strahls zur Probe besser als 40nm nachgewiesen werden. Durch mehrmaliges Belichten der selben Struktur, lassen sich beinahe beliebige 3D-Strukturen mit Strukturbreiten bis zu 60nm erzeugen. NIL-Abzüge des modifizierten Stempels wurden von der Fa. Profaktor hergestellt. Die Abzüge zeigten eine gute Übereinstimmung mit den Stempel.<br />
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In this work a 3D-capable,Focused-Ion-Beam (FIB)-based modification-process for SiO2 -Nano-Imprint-Lithography (NIL)-Templates is developed. Patterns with resolution down to 30nm were successfully formed.<br />At an aspect-ratio of 3:1 the formation of structures with a width of 60nm was feasible. An alignement accuracy better than 40nm was shown by thinning existing mesas. 3D-Strctures were successfully created by milling. The minimum-feature-size of these structrues was again 60nm.<br />NIL-Imprints of the manufactued structures were produced by Profactor and showed a good agreement with the template- structures.
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Abweichender Titel laut Übersetzung der Verfasserin/des Verfassers
