Record link: 
http://hdl.handle.net/20.500.12708/181925
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Title: 
Investigation of implantations in SiGe with TOF-SIMS
en
Citation: 
Haas, P. (2007). Investigation of implantations in SiGe with TOF-SIMS [Diploma Thesis, Technische Universität Wien]. reposiTUm. http://hdl.handle.net/20.500.12708/181925
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CatalogPlus: 
AC05034617
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Publication Type: 
Thesis - Diploma Thesis
en
 
Hochschulschrift - Diplomarbeit
de
Language: 
English
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Authors: 
Haas, Philipp 
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Advisor: 
Hutter, Herbert 
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Organisational Unit: 
E164 - Institut für Chemische Technologien und Analytik 
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Date (published): 
2007
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Number of Pages: 
67
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Keywords: 
Implantationen; Implantation; TOFSIMS; TOF-SIMS; SiGe; Si Ge; B; Bor; F; Fluor
de
Abstract: 
Untersucht wurden Bor und Fluor Implantationen in SiGe-Matrices.
Die Messergebnisse werden vom Institut für Mikroelektronik (TU-WIEN), im Rahmen eines FWF-Projektes verwendet, um die semi-empierischen Algorithmen eines Simulationsprogrammes auf diesen Halbleitertyp anzupassen.
de
Appears in Collections:
Thesis

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