Title: Advanced modeling of strained CMOS technology
Language: input.forms.value-pairs.iso-languages.en
Authors: Ungersböck, Stephan-Enzo ItemCrisRefDisplayStrategy.rp.student.icon
Qualification level: Doctoral
Advisor: Kosina, Hans
Assisting Advisor: Bertagnolli, Emmerich
Issue Date: 2007
Citation: 
Ungersböck, S.-E. (2007). Advanced modeling of strained CMOS technology [Dissertation]. reposiTUm. https://doi.org/10.34726/hss.2007.8326
Number of Pages: 127
Qualification level: Doctoral
Abstract: 
Wichtige Hersteller von Mikroprozessoren verbessern seit der Einführung der 90 nm -Technologien die Transporteigenschaften von Silizium durch den Einsatz von Techniken, die mechanische Spannungen im Transistorkanal induzieren. Die gängigsten dieser neuen Techniken, die entweder globale oder lokale Verspannungen am Silizium Wafer einprägen, werden in dieser Arbeit behandelt.
Während sich bisher theoretische Arbeiten fast ausschließlich mit biaxial verspanntem Siliziumsubstrat mit {001} Orientierung beschäftigten, sind die physikalischen Ursachen der Verbesserung der Elektronenbeweglichkeit durch uniaxiale Verspannung noch nicht zur Gänze geklärt. In dieser Arbeit wird der Einfluss allgemeiner homogener Verspannung - beschrieben durch den Spannungstensor [epsilon] - auf den Bulk-Transport und die Oberflächenbeweglichkeit von Silizium untersucht.
Als Grundlage der Analyse dient die Bandstruktur von verspanntem Silizium, welche einerseits numerisch mittels der nicht-lokalen empirischen Pseudopotentialmethode mit Spin-Bahn Kopplung und andererseits analytisch mit Hilfe der störungstheoretischen kp-Methode berechnet wird. Zusätzlich zur Verschiebung der Leitungsbandtäler relativ zueinander läßt sich aus den Berechnungen der Bandstruktur eine änderung der effektiven Elektronenmassen ableiten. Diese kann auf die Aufhebung der Entartung der zwei untersten Leitungsbänder im X-Punkt zurückgeführt werden, die von einer Scherspannung hervorgerufen wird.
Mittels der kp-Methode werden auch analytische Gleichungen zur Beschreibung der Massenänderung hergeleitet.
Die Beweglichkeit in verspanntem Silizium wird durch das Lösen der Boltzmanngleichung mit Hilfe einer Monte Carlo Methode berechnet, der sowohl eine analytische Bandbeschreibung als auch die numerisch berechnete Bandstruktur zugrunde gelegt werden kann. Es zeigt sich, dass nur im Fall von kleinen Scherverspannungen (< 0.5 %) die Beweglichkeit bei niedrigen Feldstärken aus Monte Carlo Simulationen mit einer analytischen Beschreibung der Bandstruktur mit den Simulationsergebnissen übereinstimmen, die die numerische Bandstruktur verwenden. Dies unterstreicht die Wichtigkeit die gesamte Bandstruktur einer genauen Modellierung des Ladungsträgertransports in verspannten Silizium zugrunde zu legen.
Durch das Aufkommen der Hybrid-Orientation Technologie haben die Substratorierungen {110} und {111} an Bedeutung gewonnen. Da eine mechanische Verspannung zu einer Anisotropie der Ladungsträgerbeweglichkeit führt, muss die Verspannung auf die Richtung des Kanals und die Substratoberfläche abgestimmt werden, um den größten Beweglichkeitszuwachs zu erreichen. Um die Auswirkungen der Verspannung auf die Oberflächenbeweglichkeit zu bestimmen, wird die Subbandstruktur durch selbstkonsistentes Lösen der Schrödinger-Gleichung und der Poisson-Gleichung berechnet. Im zweidimensionalen Elektronengas bewirkt die Scherspannung eine energetische Verschiebung der Subbandleitern und eine änderung der effektiven Massen. Beweglichkeitssimulationen zeigen, dass durch die inhärente Aufspaltung der Subbänder bei starker geometrischer Quantisierung, wie etwa bei Dünnschichttransistoren, die änderung der effektiven Masse gegenüber der Verschiebung der Subbandleitern an Bedeutung gewinnt.
Des Weiteren wird in dieser Arbeit der Einfluss des Pauli-Verbots auf den Elektronenladungsträgertransport untersucht. Dies ist vor allem im zweidimensionalen Elektronengas von Bedeutung, wo das Fermi-Niveau bei starker Inversion deutlich über dem Minimum des untersten Leitungsbandes liegt.

Starting with the introduction of the 90 nm CMOS technology node many important microprocessor manufacturers improve the transport characteristics of silicon using techniques that induce strain in the transistor channel. The most common techniques that produce strain globally or locally on the wafer are being reviewed in this work.
While most theoretical work has been performed for biaxially strained Si with {001} substrate orientation, a thorough theoretical analysis of electron mobility enhancement in arbitrarily strained Si is missing. In this work the effect of a general homogeneous strain - described by the strain tensor [epsilon] - on the transport in bulk Si and Si inversion layers is analyzed. The band structure of strained Si is calculated numerically using the empirical pseudopotential method with nonlocal and spin-orbit corrections. The results of band structure calculations reveal that shear strain changes the effective electron masses in addition to the splitting of the six [Delta]-valleys. The effective mass change can be attributed to the lifting of the degeneracy of the two lowest conduction bands at the X-point due to shear strain. Using the kp-method analytical expressions for the effective mass change are derived.
The transport properties of strained Si are investigated by solving the semiclassical Boltzmann equation using the Monte Carlo (MC) method employing fullband and analytical band models. The low-field electron mobility resulting from MC simulations using an analytical description of the electron bands and the fullband description coincide only for not too high shear strain (< 0.5%). At larger shear strain the band deformation is so pronounced, that fullband modeling is required.
The hybrid-orientation technology combines different silicon substrate orientations and channel directions on the same wafer and can be used in conjunction with strain techniques. Since strain yields an anisotropic mobility, the proper channel direction and substrate orientation have to be chosen to obtain the maximum mobility enhancement. The effect of strain on the inversion layer mobility of electrons is investigated by calculating the subband structure using a self-consistent Schrödinger-Poisson solver. In the two-dimensional electron gas shear strain results in a shift of the subband ladders and a change of the effective electron masses. From simulations of the effective electron mobility in ultra-thin-body MOSFETs it can be concluded that the change of the effective masses is the dominant effect leading to mobility enhancement, since the strong geometrical confinement yields a large intrinsic splitting of the subband ladders, such that an additional splitting induced by strain has only a little effect.
The effect of degeneracy both on the phonon-limited mobility and the effective mobility including surface-roughness scattering is studied using a new MC algorithm developed in this work. By comparison with results from MC simulations where the Pauli exclusion principle is neglected, it is shown that a correct treatment of degenerate carrier statistics of the 2DEG of Si inversion layers is important.
Keywords: CMOS; Verspannungstechniken; Silizium; Bandstrukturberechnung; Ladungsträgertransport; Monte Carlo; empirische Pseudopotentialmethode; kp Methode
CMOS; strain engineering; silicon; band structure calculations; transport simulations; Monte Carlo; empirical pseudopotential method; kp method
URI: https://doi.org/10.34726/hss.2007.8326
http://hdl.handle.net/20.500.12708/20398
DOI: 10.34726/hss.2007.8326
Library ID: AC05035218
Organisation: E360 - Institut für Mikroelektronik 
Publication Type: Thesis
Hochschulschrift
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