Datensatz Zitierlink: 
https://doi.org/10.34726/hss.2025.120458
http://hdl.handle.net/20.500.12708/214625
-
Titel: 
Influence of Si and Y SZ on the stabilization of amorphous Al2O3-based thin films at high temperatures
en
Zitat: 
Scholz, F. (2025). Influence of Si and Y SZ on the stabilization of amorphous Al2O3-based thin films at high temperatures [Diploma Thesis, Technische Universität Wien]. reposiTUm. https://doi.org/10.34726/hss.2025.120458
-
reposiTUm-DOI: 
10.34726/hss.2025.120458
-
CatalogPlus: 
AC17500467
-
Publikationstyp: 
Hochschulschrift - Diplomarbeit
de
Sprache: 
Englisch
-
Autor_innen: 
Scholz, Florentine 
-
Betreuer_in: 
Riedl-Tragenreif, Helmut 
-
Mitbetreuer_innen: 
Salvadores Farran, Norma 
-
Organisations­einheit: 
E308 - Institut für Werkstoffwissenschaft und Werkstofftechnologie 
-
Datum (veröffentlicht): 
2025
-
Umfang: 
69
-
Keywords: 
HiPIMS; amorphous Al2O3
en
Weitere Information: 
Arbeit an der Bibliothek noch nicht eingelangt - Daten nicht geprueft - gesperrte Arbeit (bis 2027-04-16+02:00)
Abweichender Titel nach Übersetzung der Verfasserin/des Verfassers
-
Lizenz: 
Urheberrechtsschutz
de
Enthalten in den Sammlungen:
Thesis

Scholz Florentine - 2025 - Influence of Si and Y SZ on the stabilization of...pdf
Adobe PDF
(6.15 MB)
Open Access
Embargo. Zugriff ab 30.04.2027
Zur Langanzeige

Seiten Aufrufe

23
aufgerufen am 29.04.2025

Google ScholarTM

Check