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Datensatz Zitierlink: 
http://hdl.handle.net/20.500.12708/75487
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Titel: 
Metal assisted Chemical Etching of Monocystalline Silicon Carbide
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Zitat: 
Leitgeb, M., Zellner, C., Schneider, M., & Schmid, U. (2016). Metal assisted Chemical Etching of Monocystalline Silicon Carbide. In nanoFIS 2016 - 2nd International Conference on Functional integrated nano Systems. nanoFIS 2016 - 2nd International Conference on Functional integrated nano Systems, Graz, Austria. http://hdl.handle.net/20.500.12708/75487
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Publikationstyp: 
Konferenzbeitrag - Poster Contribution
de
Autor_innen: 
Leitgeb, Markus 
Zellner, Christopher 
Schneider, Michael 
Schmid, Ulrich 
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Organisations­einheit: 
E366-02 - Forschungsbereich Mikrosystemtechnik 
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Erschienen in: 
nanoFIS 2016 - 2nd International Conference on Functional integrated nano Systems 
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Datum (veröffentlicht): 
2016
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Veranstaltungs­name: 
nanoFIS 2016 - 2nd International Conference on Functional integrated nano Systems 
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Veranstaltungs­zeitraum: 
27-Jun-2016 - 29-Jun-2016
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Veranstaltungs­ort: 
Graz, Österreich
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Umfang: 
1
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Peer Reviewed: 
Nein
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Abstract: 
Nowadays the preparation and applications seenarios of paraus semicondutors, such as silicon stimulate the realization of novel MEMS or NEMS based device concepts. Typically, they are implemented in optical biosensors, as layers affering a high surface area for supercapacitors or as sacrificial layer in the fabrication of MEMS devices.
de
 
Nowadays the preparation and applications seenarios of paraus semicondutors, such as silicon stimulate the realization of novel MEMS or NEMS based device concepts. Typically, they are implemented in optical biosensors, as layers affering a high surface area for supercapacitors or as sacrificial layer in the fabrication of MEMS devices.
en
Wissenschafts­zweig: 
Elektrotechnik, Elektronik, Informationstechnik
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Enthalten in den Sammlungen:
Conference Paper

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